感應耦荷電漿活性反應式離子蝕刻機CE-300I（ 廠牌：ULVAC）
Dry Etching System ICPRIE
採購年度：95年
管理單位：電資學院光電所
放置地點：電機二館331 室
儀器專家：楊志忠教授 02-3366-3643
儀器功能：利用電漿將反應氣體離子化，在乾燥環境下蝕刻金屬層，目的為製作出具良好方向性之奈米等級的孔洞及溝槽。
電子束微影系統ELS-7000
Electron Beam Lithography System
採購年度：96年
管理單位：電資學院電子所
放置地點：電機二館-128
儀器專家：吳肇欣教授 02-3366-3694
儀器功能：電子束微影技術
聚焦離子束/電子束雙束系統FEI-NOVA 600i
採購年度：97年
放置地點：電機二館-129
儀器功能：電子束觀測與離子束切削
太陽能電池測試系統WXS-155SL2（廠牌：WACOM）
Super Solar Simulator
採購年度：98年
放置地點：電機二館325 室
儀器功能：此機台之光源採用一組氙氣燈泡及三組鹵素燈泡來模擬太陽光譜，相對於市面上其他較常見只採用單一氙氣燈泡者，此機台在長波長範圍之頻譜的模擬更為準確，因此此機台之spectral coincidence 可達到超高品質(+/-10%)，相對於一般Class A (+/-25%)標準高上許多。使用本系統可量測太陽能電池之IV特性曲線，進而換算其元件之光轉換效率。
分子束磊晶機SVTA III-V model #35
Molecular beam epitaxy (MBE)
放置地點：電機系一館R107
儀器專家：林浩雄教授 02-3366-3670
儀器功能：提供校內外相關系所單位III-V磊晶結構樣品成長
無化學反應之氮化镓成長及量測系統－變塭載子濃度測量儀－霍爾量測Ecopia5300
No chemical reaction of the GaN growth and measurement system
採購年度：100年
放置地點：電機二館405 室
儀器專家：林清富教授 02-3366-3540
儀器功能：量測有機、無機半導體之載子濃度、載子遷移率、電阻率
無化學反應之氮化镓成長及量測系統-變塭載子濃度測量儀－脈衝雷射沉積系統Lambda Physik Compex201
儀器功能：半導體製程設備、三五族化合物半導體磊晶、LED(Light Emitting Diode)發光二極體
電漿反應離子蝕刻機RIE -10NR（ 廠牌：Samco）
Plasma Reactive Ion Etching System
採購年度：102年
儀器專家：黃建璋教授 02-3366-3665
儀器功能：利用電漿反應氣體離子化，在乾燥環境下蝕刻氧化物，目的為製作出具良好方向性之奈米等級的孔洞及溝槽。
電漿輔助化學氣相沉積系統PD-220N（ 廠牌：Samco）
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System
採購年度：104年
儀器功能：用於食用之元件製程及用於材料加工後來探討基本物性、化性、材料及光電特性
電子束蒸鍍機VTS-350M/ERH及VPC-260F（廠牌：ULVAC）
Electron Beam Evaporator System
採購年度：105年
光罩對準機SUSS MA6Gen2
Mask Aligner MA6Gen2
採購年度：109年
放置地點：電機二館331室
儀器專家：陳奕君教授 02-3366-9648
儀器功能：各種元件圖案之對準曝光顯影
